Deposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RF

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dc.contributor.advisor1Cruz, Térsio Guilherme de Souza
dc.contributor.advisor1Latteshttp://lattes.cnpq.br/0705292304279277por
dc.contributor.authorAlbuquerque, Diego Aparecido Carvalho
dc.contributor.referee1Arnold, Francisco José
dc.date.accessioned2016-06-02T19:19:55Z
dc.date.available2012-11-23
dc.date.available2016-06-02T19:19:55Z
dc.date.issued2012-03-30
dc.description.abstractThis work studied ultrathin films of titanium oxide deposited by the technique r. f. reactive sputtering with different oxygen flows and different deposition times. Optical properties were studied (ultra-violeta/Visível) and the surface morphology (Atomic Force Microscopy). The composition and structural properties of the films were analyzed by X-ray diffraction and Rutherford Backscattering Spectroscopy. The films are amorphous and rough (fractal dimension around 2.6 to 2.7 and roughness around 1.6 to 2.5 nm). The stoichiometry was fairly close to the titanium dioxide (TiO2). The optical energy Gap obtained by three different models presented values between 3.0 to 3.5 eV.eng
dc.description.resumoNeste trabalho foram estudados filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados pela técnica sputtering reativo r.f., com diferentes fluxos de oxigênio e diferentes tempos de deposição. Foram estudadas as propriedades ópticas (Ultra-Violeta/Visível), bem como a morfologia da superfície (Microscopia de Força Atômica). As propriedades estruturais e a composição dos filmes foram estudadas por Difração de raios-X e por Rutherford Backscattering Spectroscopy. Os filmes são amorfos e com superfície rugosa (dimensão fractal em torno de 2,6 - 2,7 e rugosidade em torno de 1,6 - 2,5 nm). A estequiometria ficou bastante próxima do dióxido de titânio (TiO2). A energia do Gap óptico obtido por três modelos distintos apresentou valores entre 3,0 3,5 eV.por
dc.description.sponsorshipFinanciadora de Estudos e Projetos
dc.formatapplication/pdfpor
dc.identifier.citationALBUQUERQUE, Diego Aparecido Carvalho. Deposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RF. 2012. 108 f. Dissertação (Mestrado em Materiais Funcionais e Polímeros de Fontes Renováveis) - Universidade Federal de São Carlos, Sorocaba, 2012.por
dc.identifier.urihttps://repositorio.ufscar.br/handle/20.500.14289/1167
dc.languageporpor
dc.publisherUniversidade Federal de São Carlospor
dc.publisher.countryBRpor
dc.publisher.initialsUFSCarpor
dc.publisher.programPrograma de Pós-Graduação em Ciência dos Materiais - PPGCM-Sopor
dc.rightsAcesso Abertopor
dc.subjectfilmes ultrafinospor
dc.subjectóxido de titâniopor
dc.subjectsputteringpor
dc.subjectthin filmseng
dc.subjecttitanium oxideeng
dc.subjectsputteringeng
dc.subjectóptical propertieseng
dc.subjectafmeng
dc.subjectroughnesseng
dc.subjectfractal dimensioneng
dc.subject.cnpqCIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICA::FISICA DA MATERIA CONDENSADApor
dc.titleDeposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RFpor
dc.typeDissertaçãopor

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